Ndepụta Ọnụahịa Dị Ọnụ Ala Maka China Dị Ọcha Dị Elu CF4 Gas Maka Ịkụcha Ụlọ Ọrụ Semiconductor

Nkọwa Dị Mkpirikpi:


Nkọwa Ngwaahịa

Akara Ngwaahịa

Site n'ịgbaso ụkpụrụ gị nke "ịdị mma, enyemaka, arụmọrụ na uto", anyị enwetala ntụkwasị obi na otuto site n'aka ndị ahịa nọ n'ime obodo na n'ụwa niile maka Ndepụta Ọnụahịa Dị ọnụ ala maka China High Purity CF4 Gas maka Semiconductor Industry Etching, echiche nkwado anyị bụ eziokwu, ike ike, ezi uche na ihe ọhụrụ. Site n'enyemaka, anyị ga-aka mma nke ukwuu.
Site n'ịgbaso ụkpụrụ gị nke "ịdị mma, enyemaka, arụmọrụ na uto", anyị enwetala ntụkwasị obi na otuto site n'aka ndị ahịa obodo na nke ụwa niile makaGas friji nke China CF4, Silinda GasỤlọ ọrụ anyị ga-agbaso usoro azụmaahịa "Ịdị mma mbụ,, izu oke ruo mgbe ebighị ebi, ihe ọhụrụ nke ndị mmadụ, teknụzụ". Ọrụ siri ike iji nọgide na-enwe ọganihu, ihe ọhụrụ n'ime ụlọ ọrụ ahụ, na-eme mgbalị niile iji wuo ụlọ ọrụ kacha mma. Anyị na-agbalị ike anyị niile iji wuo ụdị njikwa sayensị, ịmụta ọtụtụ ihe ọmụma ọkachamara, ịmepụta akụrụngwa mmepụta dị elu na usoro mmepụta, ịmepụta ngwaahịa dị mma nke mbụ, ọnụ ahịa ezi uche dị na ya, ọrụ dị elu, nnyefe ngwa ngwa, iji nye gị uru ọhụrụ.

Usoro Nkà na ụzụ

Nkọwapụta 99.999%
Oxygen+Argon ≤1ppm
Nitrogen ≤4 ppm
Mmiri mmiri (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0.1 ppm
CO ≤0.1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Ihe na-adịghị ọcha zuru oke ≤10 ppm

Carbon tetrafluoride bụ hydrocarbon a na-akpọ halogenated nwere usoro kemịkalụ CF4. A pụrụ iwere ya dị ka hydrocarbon a na-akpọ halogenated, methane a na-akpọ halogenated, perfluorocarbon, ma ọ bụ dị ka ihe na-adịghị emepụta ihe. Carbon tetrafluoride bụ gas na-enweghị agba na isi, nke na-adịghị agbaze na mmiri, nke a na-agbaze na benzene na chloroform. Ọ na-adị mma n'okpuru okpomọkụ na nrụgide nkịtị, zere ihe ndị na-eme ka oxidants sie ike, ihe ndị na-ere ọkụ ma ọ bụ ihe ndị na-ere ọkụ. Gas na-anaghị ere ọkụ, nrụgide dị n'ime nke akpa ahụ ga-abawanye mgbe a na-ekpughe ya na okpomọkụ dị elu, enwerekwa ihe ize ndụ nke mgbawa na mgbawa. Ọ kwụsiri ike na kemịkalụ ma ghara ire ọkụ. Naanị ihe na-eme ka ammonia-sodium metal dị mmiri mmiri nwere ike ịrụ ọrụ na okpomọkụ ụlọ. Carbon tetrafluoride bụ gas nke na-akpata mmetụta griinhaus. Ọ kwụsiri ike nke ukwuu, ọ nwere ike ịnọ n'ikuku ruo ogologo oge, ọ bụkwa gas griinhaus dị ike nke ukwuu. A na-eji carbon tetrafluoride eme ihe na usoro nhazi plasma nke sekit dị iche iche agbakwunyere. A na-ejikwa ya dị ka gas laser, a na-ejikwa ya eme ihe na refrijerant dị obere okpomọkụ, ihe mgbaze, mmanụ, ihe mkpuchi, na ihe oyi maka ihe nchọpụta infrared. Ọ bụ gas plasma etching kacha eji eme ihe na ụlọ ọrụ microelectronics. Ọ bụ ngwakọta nke gas dị ọcha tetrafluoromethane na gas dị ọcha tetrafluoromethane na oxygen dị ọcha. Enwere ike iji ya mee ihe nke ukwuu na silicon, silicon dioxide, silicon nitride, na iko phosphosilicate. A na-ejikwa ihe nkiri dị gịrịgịrị dị ka tungsten na tungsten eme ihe nke ukwuu na nhicha elu nke ngwaọrụ eletrọnịkị, mmepụta sel anyanwụ, teknụzụ laser, friji dị ala, nyocha mmiri, na ihe nhicha na mmepụta sekit ebipụtara. Ejiri ya dị ka refrigerant dị ala na teknụzụ akọrọ plasma maka sekit agbakwunyere. Ihe Ndị A Na-akpachara Anya Maka Nchekwa: Debe n'ụlọ nkwakọba gas dị jụụ, nke ikuku na-anaghị ere ọkụ. Debe ya ebe ọkụ na ebe okpomọkụ na-esi. Okpomọkụ nchekwa ekwesịghị ịgafe 30°C. A ga-echekwa ya iche iche site na ihe ndị na-ere ọkụ (ndị nwere ike ire ere) na ihe ndị na-eme ka ọ ghara ire ọkụ, ma zere ebe a na-echekwa ihe dị iche iche. Ebe a na-echekwa ihe kwesịrị inwe ngwa ọgwụgwọ mberede nke na-agbapụta mmiri.

Ngwa:

① Ihe na-eme ka friji dị jụụ:

A na-eji Tetrafluoromethane eme ihe mgbe ụfọdụ dị ka ihe na-eme ka ọ dị obere okpomọkụ.

  fdrgr greg

② Ịkpụcha ihe:

A na-eji ya eme ihe n'ikpo ihe eji emepụta ihe n'igwe eletriki naanị ya ma ọ bụ na njikọta ya na oxygen dị ka ihe e ji etinye ihe n'ime plasma maka silicon, silicon dioxide, na silicon nitride.

dsgre rgg

Ngwugwu nkịtị:

Ngwaahịa Carbon Tetrafluoride CF4
Nha ngwugwu Silinda 40Ltr Silinda 50Ltr  
Ijuputa ibu arọ/silinda 30Kg 38Kg  
Ọnụọgụ Ebugoro n'ime akpa 20' Sil 250 Sil 250
Mkpokọta Ibu Net Tọn 7.5 Tọn 9.5
Ibu Silinda Tare 50Kgs 55Kgs
Valvụ CGA 580

Uru:

①Ịdị ọcha dị elu, ụlọ ọrụ kachasị ọhụrụ;

②Onye nrụpụta asambodo ISO;

③Nnyefe ngwa ngwa;

④ Sistemụ nyocha n'ịntanetị maka njikwa mma na nzọụkwụ ọ bụla;

⑤Nchọ dị elu na usoro nlezianya maka ijikwa silinda tupu ejuputa ya;Site n'ịgbaso ụkpụrụ gị nke "ịdị mma, enyemaka, arụmọrụ na uto", anyị enwetala ntụkwasị obi na otuto site n'aka ndị ahịa nọ n'ime obodo na n'ụwa niile maka Ndepụta Ọnụahịa Dị ọnụ ala maka China High Purity CF4 Gas maka Semiconductor Industry Etching, echiche nkwado anyị bụ eziokwu, ike ike, ezi uche na ihe ọhụrụ. Site n'enyemaka, anyị ga-aka mma nke ukwuu.
Ndepụta Ọnụahịa Dị Ọnụ Ala makaGas friji nke China CF4, Silinda GasỤlọ ọrụ anyị ga-agbaso usoro azụmaahịa "Ịdị mma mbụ,, izu oke ruo mgbe ebighị ebi, ihe ọhụrụ nke ndị mmadụ, teknụzụ". Ọrụ siri ike iji nọgide na-enwe ọganihu, ihe ọhụrụ n'ime ụlọ ọrụ ahụ, na-eme mgbalị niile iji wuo ụlọ ọrụ kacha mma. Anyị na-agbalị ike anyị niile iji wuo ụdị njikwa sayensị, ịmụta ọtụtụ ihe ọmụma ọkachamara, ịmepụta akụrụngwa mmepụta dị elu na usoro mmepụta, ịmepụta ngwaahịa dị mma nke mbụ, ọnụ ahịa ezi uche dị na ya, ọrụ dị elu, nnyefe ngwa ngwa, iji nye gị uru ọhụrụ.


  • Nke gara aga:
  • Osote:

  • Dee ozi gị ebe a zitere anyị ya